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皮奧寧祛痘.淡疤去印修復膏

A-04173-00020-A
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功效說明:
專利配方技術,專利號:1224501

獨特配方配合專利技術,有效改善痘痘疤痕及淡化色疤豆印,蘊含皮奧寧及積雪草苷,促進真皮細胞癒合,擊退黑色素沉澱,令肌膚回復細緻平滑。

主要成分:
皮奧寧、積雪草苷、天然植物抗敏精華、透明質酸、維他命原B5

使用方法:
潔面爽膚後,取適量塗於痘痘處(避開皮膚破損處),輕柔按摩至吸收,建議每日使用兩到三次。

皮奧寧祛痘.淡疤去印修復膏-Choi Fung 皮奧寧祛痘.淡疤去印修復膏

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